Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
A metamorphic HEMT (MHEMT) MMIC technology including circuit applications is presented. The MHEMT layers are MBE grown on 4-inch GaAs wafers. The technology is based on a 50 nm gate length MHEMT and includes a 50 mum substrate backside process with dry etched through-substrate vias. For the electron confinement an ln0.8Ga0.2As/ln0.53Ga0.47As composite channel was used. The devices are passivated with...
We fabricated a 35-nm-gate In0.7Ga0.3As/In0.52Al0.48As high electron mobility transistor by using a simple, self-aligned one-step-recessed gate procedure. An extrinsic maximum transconductance (gm_max) of 1.7 S/mm and a current gain cutoff frequency (fT) of 520 GHz were achieved at room temperature. This significantly high fT was obtained by reducing the gate length to 35 nm and using an epitaxial...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.