Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
1320 nm Continuous Wave (CW) laser is conventionally used for Timing Analysis techniques like Laser voltage probing which has spatial resolution limitation as the technology node scales down. This paper illustrates case studies using 1064 nm CW laser for timing analysis and highlights its spatial resolution advantages for use in Fault Isolation.
In semiconductor companies, failure analysis (FA) activities play a major role in all many areas. FA is deeply involved in new process technology development, 1st Silicon bring-up, wafer sort and backend yield improvement, product qualification and customer return analysis.
Failure analysis plays a major role in all areas of the semiconductor company especially during product development cycle, 1st silicon stage, or in wafer processes and fabrication as well as assembly and package development. Different companies have different FA flows but all FA steps will need to start with fault isolation. Fault isolation is the step to narrow down the focus area of a failing component...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.