Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
MIM capacitors with MOCVD-grown RuO2 bottom electrode, ALD-grown TiO2 rutile dielectric and RuO2 and Pt top electrodes were prepared and characterised by the means of C-V and J-V measurements. Dielectric constants were in the range of 140, which correspond to EOT of 0.5 nm and leakage current density as low as 1.5*10-6 A/cm2 was achieved. Strong influence of TiO2 stoichiometry on the leakage currents...
In this paper we describe resistive switching in RuO2/TiO2/RuO2 structures. Electrodes (RuO2) were grown by metal organic chemical vapor deposition and dielectric TiO2 switching layers with rutile structure were prepared by atomic layer deposition. After proper nitrogen annealing of as-grown samples followed by an electro-forming procedure and forming procedure bipolar resistive switching was observed...
We present electrical characterization of Si(p)/GdScO3/Ru metal-oxide-semiconductor structures prepared by liquid injection metal organic chemical vapour deposition. Capacitance-voltage measurement revealed dielectric constant κ=22. Density of interface states was determined using conductance measurement. Annealing in forming gas resulted in decrease of the interface state density in the middle of...
Together with high-κ dielectric films, metal gate electrodes have to be employed in advanced CMOS technologies. The metal gate material should be carefully selected with respect to work function, stability of metal-dielectric stack and compatibility with the CMOS process. In our investigation, Ru, RuO 2 and SrRuO 3 gate electrodes grown on thermal SiO 2 , atomic-layer deposition...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.