Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Silicon tip fabrication by wet anisotropic etching using Potassium Hydroxide (KOH) and Tetra Methyl Ammonium Hydroxide (TMAH) was studied under varying process conditions using thermal oxide as a mask. The fabrication was carried out using only wet etching with a single layer of optical lithography. The mask structures used for the formation of tips were circles of different dimeter ranging from 30...
Deep vertical etching of Si using hydrogen peroxide as oxidant and Au as catalyst has been studied in terms of relative reactant concentrations and catalyst morphology. The concentrations of hydrogen peroxide and hydrofluoric acid are highly important and the ratio of the same can be varied to achieve isotropic to highly anisotropic vertical etching. Catalyst morphology and positioning of the substrate...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.