Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Toppling during clean process is a general structure issue when we scale down critical dimension (CD)/increase aspect ratio (AR) and density of the nano structures. In this paper, we demonstrated a novel process with CH4 PLAD (plasma doping) conformal process to eliminate the toppling issue. A uniform C deposition layer from CH4 PLAD process wrapped the whole structure on the top/bottom/sidewall and...
In this paper, we demonstrate that high voltage NMOS is very sensitive to LDD implant process conditions. With the same implant energy and dose, high voltage NMOS channel punch through BVDSS tail is strongly toggled by critical implant process parameters such as beam current and beam size. Lower beam current density reduces both implant damage and beam angular divergence. As a result, LDD lateral...
This work demonstrates that the sequence of a Ge co-implant with a B 2 H 6 PLAD in the source/drain is very critical in order to improve advanced PMOS performance. Locating the Ge co-implant after the B 2 H 6 PLAD resulted in higher total retained B dose and less implant damage. PMOS performance was significantly improved compared to B 2 H 6 PLAD without...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.