Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
We have used the gate end-to-end (GEE) resistance method to measure channel temperatures in GaN HEMTs. This method is appealing for its simplicity and sensitivity to temperature immediately adjacent to the base of the gate, where several important degradation mechanisms occur. This region is not normally accessible with optical measurement techniques, due to shadowing by the gate and field plate overhangs;...
An on-chip buck converter with 3D chip stacking is proposed and the operation is experimentally verified. The manufactured converter achieves a maximum power efficiency of 62% for an output current of 70mA with a switching frequency of 200MHz and a 2x2mm on-chip LC output filter in 0.35mum CMOS. The use of glass epoxy interposer to increase the maximum power efficiency up to 71.3%, and the power efficiency...
This paper introduces a novel current sense amplifier (CSA) in sub-32nm fully depleted (FD) double-gate (DG) silicon-on-insulator (SOI) technology with planar independent self-aligned gates. A new architecture is proposed which takes advantage of the back gate in order to improve circuit properties. Compared to the reference circuit, the new architecture proves to be faster (21% sensing delay decrease),...
Transconductance (gm) enhancement in n-type and p-type nanowire field-effect-transistors (nwFETs) is demonstrated by introducing controlled tensile strain into channel regions by pattern dependant oxidation (PADOX). Values of gm are enhanced relative to control devices by a factor of 1.5 in p-nwFETs and 3.0 in n-nwFETs. Strain distributions calculated by a three-dimensional molecular dynamics simulation...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.