Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
In this work we present our recent investigation on characterizing mechanical properties of porous silicon (PS) by using instrumented micro-indentation. Hardness and elastic modulus for oxidized and nonoxidized PS were measured. Experimental results revealed that hardness and elastic modulus are significantly lower than that of silicon substrate and decrease with increasing porosities. After oxidation...
Facing the relating questions such as evaluation method of clad material was not perfect and only as estimate approach, application of ROME law was less to VCM clad sheet, the differences between the predicted values and experimental values were bigger when static loading condition, a new evaluation index of mechanical properties for VCM multi-layer sheet was proposed using ROME law, the index contain...
This work presents the influence of post-annealing on mechanical and electrical properties of boron-doped hydrogenated nanocrystalline silicon (nc-Si:H) thin films deposited on Corning 7059 glass and Si substrate by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) technique. The basic mechanical properties of the films are measured by means of nanoindentation system. Using a four point resistivity...
To determine the hardness and elastic modulus of a 560 nm polycrystalline Al thin film deposited on 7059 glass substrate from nanoindentation tests, we design a method to avoid the severe influences of both substrate and pile-up behavior on evaluated results. Firstly, the hardness is calculated by measuring the total projected contact area of residual impression with help of atomic force microscope...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.