Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
This paper describes a new process based on electrostatic dry deposition (EDD), which provides a novel and simple option for the fabrication of porous ceramic filter. Fine Al2O3 particles (average particle size less than 5 mum) suspended in gas phase were deposited on porous ceramic substrate in the form of particle chains under the action of an electrostatic field without corona generation. After...
Thin films of (HfO2)x(Al2O3)1-x alloys were prepared by chemical vapor deposition using the volatile coordination compounds. Amorphous structure of the films has been revealed by X-ray analysis when the Al content is of >30%. It was shown by EDS and XPS that Al concentration increases with rising the substrate temperature and content of the Al(acac)3 in mixture of the precursors. Formation of (HfO...
To investigate the charge trapping behavior in Oxide-Nitride-AI2O3 (ONA) structures, time-resolved photo-depopulation (TRPD) was introduced with varying the temperature and the photon energy. ONA structures were fabricated with the thickness of 3 nm (tunneling), 7 nm, and 10 nm (blocking), respectively. Tunneling oxide was grown by thermal oxidation while nitride and Al2O3 layers were deposited by...
Silicon nanorods have been grown by chemical vapor deposition of silane, using both gold and indium as catalysts for the vapor liquid solid (VLS) process. Conditions for optimal rod morphology for each catalyst were identified by varying silane partial pressure and temperature in the range P=0.05-1 Torr and T=300-600 degC, respectively. In most cases, catalyst particles were formed by partial de-wetting...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.