Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
The device characteristics and manufacturability of ultra-thin oxynitride have been systemically studied in this paper for CMOS applications. We have found that the transistor with plasma oxynitride gate dielectrics gives better pFET performance in terms of drive current, mobility, threshold voltage and leakage current as compared to the one with thermal oxynitride. For nFET, the performance for transistors...
The solid-state reaction of Ni/Si in the presence of other elements is investigated. The alloying effects on both NiSi/Si Schottky contacts and Ni fully silicided (FUSI) gates on SiO2 dielectric are studied by phase, composition, and electrical characterization tools. The results show that after silicidation Er, Y, and Al all segregated at the Ni-silicide surface rather than piled up at the Ni-silicide/Si...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.