Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Laser annealing can be used for applications that require confinement of heat on the top surface in order to preserve the integrity of buried structures. To confine heat near the silicon surface, the most appropriate tool is UV laser. Here, two excimer lasers with different characteristics were used to anneal boron in silicon. The first one has pulse duration of about 180 ns and the second one of...
The high reactivity of the free silicon surface and its consequence: the "omnipresent" native silicon oxide hinder the interface engineering in many processing steps of IC technology on the atomic level. Methods known to eliminate the native oxide need in most cases vacuum processing. They frequently deteriorate the atomic flatness of the silicon. Hydrogen passivation by a proper DHF (diluted...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.