Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
The effects of Zr composition on the crystallization behaviors and reliability characteristics of atomic-layer-deposited Hf1-x ZrxOy (0 ≤ x ≤ 1) gate-dielectric films are examined. n-Channel metal-oxide-semiconductor field-effect transistor (nMOSFET) devices with ZrO2 gate dielectrics showed a much smaller Vth shift under the positive bias stress compared with the same device with HfO2 gate dielectrics...
HfO2, HfZrxOy and ZrO2 gate dielectrics are systematically compared in terms of the nMOS PBTI and pMOS NBTI. Compared to HfO2, ZrO2 exhibits higher capacitance and superior nMOS mobility characteristics. In addition, as the ZrO2 content increases, Vth shift under the nMOS PBTI stress is dramatically reduced. This is mainly contributed to the lower density of pre-existing bulk traps related to the...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.