Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Porous low-k dielectrics are susceptible to damages by steps such as etch, ash, and CMP in the BEOL process flow. Such damages degrade the structural and electrical properties of low-k materials. To uphold the value of integrating low-k dielectrics, restoration processes are needed to repair such damages. In this work, UV-assisted silylation is used to repair damages and restore properties of porous...
The fluorescence is experimentally controled with bandgap engineering of structured metal surface. Grating duty ratio is optimized as 3/4 and narrow emission spectra are obtained by coupling between Fabry-Pérot cavity and surface plasmon polariton modes.
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.