Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Gas-based ion implantation with halogen containing compounds, especially fluorine, or oxygen, cause high stress on source materials such as tungsten and molybdenum. Sources can fail prematurely stemming from a reaction between halogen or oxygen ions in the source plasma with the source materials. Based on well-established Plansee refractory metals (RM = W, WL, Mo) a range of new materials with Carbon...
Many plasma facing surfaces are prone to corrosion due to aggressive environment in ion implantation sources. Tungsten materials are commonly used because of their high chemical and temperature stability. To further improve the plasma resistance of tungsten, a method was developed to provide the parts with a coating containing tungsten carbide or tungsten boride. Through depositing carbon and / or...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.