Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Simulations of modern, high current electron beam lithography devices may require modeling of optical components and multiple electron sources that are positioned both aligned with, and oblique to, the main device axis. Such devices may include counter streaming regions, where two beams are co-located in space while propagating in opposite directions. Modeling such complex multi-beam systems presents...
Parametric image-forming models were used to demonstrate the imaging of potential mask defects over ranges of descriptive parameters, either isolated or coincident with a critical object. Beyond basic defect printability effects, CD errors due to defects near CD objects cause serious constraint on allowable pattern defects or contaminants, and define post-repair requirements. The models can provide...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.