Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Electrodeposition of SiC particles with nickel matrix in the presence of cetyltrimethylammonium bromide (CTAB) at two current densities was carried out. Surface chemistry (amount of acidic and basic superficial groups, surface charge, Ni 2+ and Br − adsorption) of the SiC powder in the presence of various CTAB amounts (0–1.1mM) was studied. Cationic surfactant inhibited adsorption...
Nanometer thick films have been deposited on silicon substrate by plasma-enhanced chemical vapour deposition (PE-CVD) process using non-homogenous, filamentary dielectric-barrier discharge (DBD) at atmospheric pressure. This film deposition technique enables the introduction some organic fragments into the coating material-silicon dioxide (or oxynitride)-resulting in good properties for self-lubrication...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.