Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
An optimized process was developed for fabrication of high-aspect-ratio photoresist-derived carbon microelectrode array on silicon substrate. This process consisted of conventional photolithography, three-step linear pyrolyzing process and micromechanical interlocking. Comparing with previous two-step pyrolysis, three-step linear pyrolysis process can better preserve the geometry of microstructure...
This paper describes a new method to improve adhesion between high-aspect-ratio carbon micro/nano-structure and silicon substrate by micromechanical interlocking over conventional carbon micro-elecro-mechanical system (C-MEMS) process. Anisotropic wet chemical etching using potassium hydroxide (KOH) solution and aqueous tetramethyl ammonium hydroxide (TMAH) is applied to form various aspect-ratio...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.