Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
This paper describes the features and performance of an analog and RF device technology development on a 14-nm logic FinFET platform. An optimized single-side gate contact RF device layout shows a ${F}_{t}/{F}_{\text {max}}$ of 314/180 GHz and 285/140 GHz for ${N}$ and PFinFET device, respectively. The double-side gate contact structure with contact on either end of active gate enhances the peak...
Inductively coupled plasma as a high density plasma source and Cl2 as main process gas are tested for etching of Pt thin films. Optical emission spectra show the possible compound formation of Pt with Cl, which is an evidence of ion-assisted chemical reaction. Addition of oxygen to Cl2 plasma enhances the selectivity to hard SiO2 mask to more than 2.0 while maintaining Pt etch rate higher than 200...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.