Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
The high frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (HF-PECVD) is a well applicable deposition technique for large area and high rate deposition for silicon thin film solar cell application. This paper presents the properties of hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) films and high efficiency of p-i-n solar cells prepared using RF (27.1 MHz) excitation frequency. The influence of the power...
The passivation effects for multicrystalline silicon solar cell with different configurations are investigated. Al2O3 and SiO2 films are used as the passivation layer in this work. They are prepared by atomic layer deposition and thermal oxidation, respectively. Using monolayer (Al2O3 or SiO2) as the passivation layer, the cell efficiency is 16.33% and 17.41%, respectively. The excellent passivation...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.