Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
In this letter, we analyze the nonsaturating upturns of capacitance under strong accumulation bias in MOS capacitors with high-k dielectrics. By comparing the electrical properties of dielectric samples with and without HfO2 and by varying the ambient temperature, it is found that the conduction through the shallow trap levels in the HfO2 bulk produces not only a steady-state current but also a dynamic...
We investigate RF performances and hot carrier effects of nMOSFETs at cryogenic temperature. RF performances of HfO2 dielectric nMOSFET at 77 K are improved more than those of SiO2 dielectric nMOSFET although DC performances are improved similarly. The nMOSFET with HfO2 dielectric has 127.4 GHz fT and 75.4 GHz fmax at 77 K. In hot carrier injection measurement, gm of HfO2 nMOSFET at 77 K is degraded...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.