Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
In this paper, we have revealed major implant process that improves for the mismatch on the 65nm CMOS technology. Two more effective experiments are been presented, i.e. threshold implant energy and species. As a result, the impact of threshold implant process on the matching characteristic has been demonstrated. In addition, the threshold implant of higher energy and heavy species are two unusual...
In this paper, it is found that the optimal STI process can effectively reduce bulk leakage from junction and this is very important for low power devices. Also, we found an optimal STI process to reduce standby current of SRAM. According to bulk current becomes worse with device width shrinkage and also increases standby current of SRAM, we used optimal STI process for step height, divot and corner...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.