Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
There are two different types of damage resulting from plasma etching (oxide charging damage and plasma edge damage) which can degrade reliability of CMOS devices. The oxide charging damage is due to plasma induced Fowler-Nordheim curnent flowing through gate oxide, while edge damage is due to direct plasma exposure during poly-Si overetch period. This paper addresses the influence of plasma etching-induced...
The paper discusses mechanisms of process-induced damage observed in plasma etched CMOS devices. The low-level oxide leakage and degraded breakdown properties are investigated and experimentally simulated with thin oxide MOS structures. It is shown, that both low-level oxide leakage and degraded QBD, with their strong antenna dependence to plasma charging, are a result of temperature accelerated low-current...
MOSFET can be degraded during plasma processing due to high field induced charging, ion species diffusion and ultraviolet light bombardment. In an ``as processed'' device, the effect of plasma charging is not seen presumably due to the annealing effects in subsequent processing steps. However, when these devices are subjected to Fowler-Nordheim (F-N) or hot carrier (HC) stress, the effect of damage...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.