Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
This paper presents the fabrication of wafer-level hermetic encapsulation for MEMS devices using low-temperature (300°C) Au-Sn bonding together with their pre- and postbonding characterization. Thermal evaporation method was used for metallization which is easy and controllable method for low thickness metallization. In this respect, the current study represents preliminary characterization results...
This paper presents a new method for wafer-level hermetic encapsulation of MEMS devices using low-temperature (280 to 300°C) Au-Sn eutectic bonding applied to the recently developed advanced MEMS (A-MEMS) process of the METU-MEMS Research Center, which uses an SOI cap wafer with vertical feedthroughs that does not need any complex via-refill or trench-refill process steps. The Au-Sn eutectic bonding...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.