Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
The lithography sequence is the most critical step in the fabrication of nanostructures for integrated circuit manufacturing. In this paper, we present the development of in-situ real-time sensors and actuating sytems for real-time monitoring and control of the single most critical parameter in the lithography sequence: the critical dimension (CD) or linewidth of the structures. The use of an in-situ...
A programmable multizone thermal-processing module is developed to achieve wafer-temperature uniformity during the thermal-cycling process in lithography. The bake and chill steps are conducted sequentially within the same module without any substrate movement. An array of thermoelectric devices (TEDs) is used to provide a distributed heating to the substrate for uniformity and transient temperature...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.