Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
ZnO-based MOSFETs were fabricated in this study. The I-V curve of the source-drain ohmic contacts show. We can get the good ohmic performance by using the Ti/Al/Ti/Au metals and annealing at 525 ??C, 3 minutes. Then, we deposited the SiO2 layer by using photo-CVD system and the schematic diagram of photo-CVD system shows in figure 2.
In this research, effects of thermal annealing on the performance of AlInGaN Metal-Insulator-Semiconductor photodetectors have be investigated by I-V characteristics and responsivity measurement. In addition, Al0.25In0.04Ga0.71N MIS photodetectors with different SiO2 thickness were also be fabricated to verify the the influence of inserting SiO2 layer on performance of MIS photodetectors.
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.