Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Recent advancements in the integration of nanoscale, single‐crystalline semiconductor ‘X’ on substrate ‘Y’ (XoY) for use in transistor and sensor applications are presented. XoY is a generic materials framework for enabling the fabrication of various novel devices, without the constraints of the original growth substrates. Two specific XoY process schemes, along with their associated materials, device...
Two approaches to control high-k/Ge interface qualities were investigated. The first approach was using high-k materials that are intimate with Ge. These Ge-intimate high-k materials should have moderate reactivity with Ge to form an amorphized interface that will reduce the interface defects and will suppress the GeO desorption at the interface. The second approach was modifying the annealing processes...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.