Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
The atmospheric pressure plasma-enhanced chemical vapor deposition of fluorinated silica glass was demonstrated at a temperature of 120°C. The process was carried out by simultaneously feeding tetramethylcyclotetrasiloxane (TMCTS) and triethoxyfluorosilane (TEOFS) into the afterglow of helium and oxygen plasma. The effect of the flow rate of the fluorinated precursor on the growth rate, composition,...
An atmospheric pressure oxygen and helium plasma was used to activate the surface of poly(methyl methacrylate) (PMMA). The plasma physics and chemistry was investigated by numerical modeling. It was shown that as the electron density of the plasma increased from 3 × 1010 to 1 × 1012 cm−3, the concentration of O atoms and metastable oxygen molecules (1Δg) in the afterglow increased from 6 × 1015 to...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.