Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
In this paper we discuss the influence of thermally annealed Schottky metal contact on DC and RF characteristics of n-GaN Schottky diode. The fabrication of n-GaN Schottky diode started with mesa mask RIE etching and then lift off Al as an ohmic contact annealed at 400degC in N2 ambient for 10 min. For Schottky contact lift off Pt, Ni and Pd Schottky metal annealed from 400degC to 600degC for 10 min...
The electrical properties of various metal contacts on n-type GaN at high and low doping concentration (5*1018cm-3 and 1*1015 cm-3) were simulated to determine the underlying trend between the metallic contact work function and the resultant Schottky barrier height between the metal and the GaN material. Pt, Ni, Pd, Au, Co, Cu and Ag metals having different work functions were investigated. Operating...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.