Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
This paper presents the results for developing SiO2 plasma etching with tapered sidewalls for microelectromechanical systems (MEMS). The experiment was designed in an industrial inductively-coupled plasma reactive ion etching tool, wherein a two-step etching process was developed for opening vias in the SiO2 with a sidewall angle of 68°–70°. The first step modified the photoresist profile from a vertical...
The focused ion beam technique is a frequently used method to manufacture photonic crystal structures due to its capability of defining patterns in a wide range of materials without using masks. One critical drawback of FIB milling technique is the non-vertical profile resulted from redeposition effects during lithography. Tapered sidewalls may impact the performance of the fabricated device significantly...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.