Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Poly-Silicon is widely used in semiconductor devices especially in TFTs technology. Performance of silicon thin film depends on the degree of crystallization. Enhancing the crystalline is the ultimate goal in this annealing process. The best annealing process will be identified. Initially Al doped Si film was prepared via PVD technique. Three different annealing processes were investigated. The first...
In addition to the non-thermal ablation and the LIPSS (laser induced periodic surface structures) formation, it had been reported that femtosecond laser irradiation induced amorphization of crystalline semiconductor and crystallization of amorphous Si. This paper reports on the laser wavelength dependences of the phase transition of Si by femtosecond laser pulses. Results show that the thickness of...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.