Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Plasma generation systems represent a particularly challenging load for radio-frequency power amplifiers owing to the combination of high operating frequency (e.g., 13.56 MHz) and highly variable load parameters. We introduce a dynamic matching system for inductively coupled plasma (ICP) generation that losslessly maintains near-constant driving point impedance (for low reflected power) across the...
Plasma generation systems represent a particularly challenging load for radio-frequency power amplifiers owing to the combination of high operating frequency (e.g., 13.56 MHz) and highly variable load parameters. We introduce a dynamic matching system for Inductively Coupled Plasma (ICP) generation that losslessly maintains near-constant driving point impedance (minimal reflected power) across the...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.