Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
In secondary ion mass spectrometry (SIMS), the relationship between negative secondary ion yield (γ - ) of C, Si, and Ge in an InP substrate and sputtering yield (Y), and that between the secondary ion yield and the surface density of reactive primary ion Cs (n Cs (0); zero refers to substrate surface) were examined by changing the incident angle of the primary ion to the surface...
We studied the Auger electron emission induced by energetic (600 and 900 eV) atoms bombardment in oblique incidence on Si films from submonolayer to 4 monolayers (ML) thickness. Atomic and bulk contributions to the Si Auger emission were separately determined, and show a different trend versus film thickness. We ascribe these differences to the interplay between processes (different mechanisms of...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.