Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
In this work, enhanced noise and linearity performance in 0.25 μm gate-length AlGaN/GaN metal-insulator-semiconductor high electron mobility transistors (MISHEMTs) on high-resistivity silicon substrate using atomic-layer-deposited (ALD) Al2O3 as gate dielectric is reported. High current gain cut-off frequency fT above 40 GHz and low minimum noise figure NFmin of ~1.0 dB at 10 GHz were achieved. This...
Improved device linearity for low-noise applications has been demonstrated in 0.25-μm AlGaN/GaN metal-insulator-semiconductor high-electron-mobility transistors (MISHEMTs) using atomic-layer-deposited (ALD) Al2O3 as gate dielectric. The measured dc transconductance, microwave small signal, and noise performance feature less dependence on drain current as compared to conventional Schottky-gate AlGaN/GaN...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.