Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Using high-resolution silicon stencil masks and employing a resist-free, solvent-free, low-temperature (90°C) fabrication process we have fabricated low-voltage top-contact organic thin-film transistors (TFTs) with a channel length down to 0.8 μm. To observe the scaling requirements and to alleviate short-channel effects, a thin gate dielectric with a thickness of 5.3 nm is employed. The p-channel...
For the first time, we demonstrate control of organic thinfilm transistor's (OTFT) threshold voltage (VT) by modifying the gate work function. We present a near-room-temperature, fully lithographic process to fabricate integrated pentacene dual VT OTFTs suitable for large-area and flexible mixed signal circuits. Platinum and aluminum are used as the gate metals for the high VT (more depletion-like)...
This paper describes a design flow for the circuit-level optimization of a technology. The concurrent exploration of device characteristics and library design choices leads to a more application-optimal technology. We illustrate the design flow by: 1) analyzing the impact of buffer cell design, and 2) by optimizing a 130 nm technology for low operational power.
The power consumption and the matching will be the principal issues at the 32 nm node and below. In this context, Ultra-Thin Body devices are extensively studied for the end-of-roadmap CMOS. In this paper we present the SON technology, leading to the simple fabrication of sustained mono-Si nano-membranes over an empty tunnel, and discuss on the application of this process to build-up electronic devices...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.