Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
A new process is presented for ohmic contact realisation to n-GaAs. The process enables selective formation of ohmic contacts showing ohmic characteristics without an alloying process. This is realised through the deposition of a heavily doped n-Ge layer on an n-GaAs layer. It is possible to grow a Ge layer on GaAs without deposition on SiO2 which is used as a mask. A Ge layer with doping in excess of 1019 cm?3 can be obtined, using GeH4, PH3 and H2 as source gases. This doping level is sufficiently high to exhibit nonalloyed ohmic characteristics.