Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Effect of annealing in the structure and morphology of vacuum deposited thin nickel films are reported. From the X-ray diffraction analysis, the oxidation mechanism observed in the transformation of Ni to NiO suggested that the phase transformation could occur through two oxidation states. The SEM observations indicate that the oxidation of Ni to NiO is controlled by the diffusion of Ni ions through the grain boundaries. A needle-type growth seen at some regions of the films annealed in the range 573-623K is also reported. A maximum transparency of 75% at 550nm and an optical band gap of 3.54eV are obtained for the NiO film and its temperature coefficient of resistivity is found to be negative in the range 303-468K.