Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Thin passive layers of uranium nitride were formed by nitriding pure metallic uranium in non-equilibrium, low pressure radiofrequency plasma of nitrogen. Plasma nitriding at low substrate temperature of 230°C-250°C was found to cause the formation of adherent layers of uranium sesquinitride (α-U 2 N 3 ) which provide a considerable protection against hydrogen attack. The characteristics of these passivation layers were determined by X-ray diffraction and Auger electron spectroscopy. The incipient hydriding kinetics of the plasma-treated samples were compared with those of untreated and nitrogen-ion implantation ones, utilizing a hot-stage microscope that was monitored continuously with a TV camera and videotape.