Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
New structural results of the epitaxial growth of Co/Cu(111) in the coverage regime 1.5-15 ML are presented as investigated by quantitative LEED and STM. In the low coverage regime there is pure fcc stacking with copper diffused on top of 30% of the domains. The growth is ideally pseudomorphic. At intermediate coverages hcp stacked domains develop on the cost of fcc domains whereby the latter seem to be stabilized by their top copper layer. At high coverages the film is predominantly hcp exhibiting the ideal lattice parameter of Co(0001).