Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
In this paper we report results on the fabrication and characterisation of thin films of titania (TiO 2 ), a novel host for the Eu 3+ activator ion. The titania films were produced by the sol-gel process at room temperature using the dip coating method and deposited on silicon and corning glass substrates. It is shown that different surface morphology and crystalline structures are developed for the TiO 2 :Eu films deposited on different substrates. When an above TiO 2 band gap photoexcitation line (He-Cd 325 nm) is used, the films show a strong red photoluminescence (PL) signal associated with the 5 D 0 -> 7 F j transition of the electronic structure of Eu 3+ . The PL emission has better characteristics for those films deposited on silicon wafers. The PL signal becomes weaker after annealing at relatively low temperatures such as 450 o C due to thickness reduction of the TiO 2 film and the loss of Eu in the near-surface region.