Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Cross-sectional microstructure of the SnO 2 films on glass produced by the chemical vapor deposition (CVD) and spin coating process was investigated by high-voltage transmission electron microscopy (HVTEM). Thin cross-sections of the transparent SnO 2 films on glass for TEM observation were prepared by the precision ion polishing system (PIPS) method to obtain large electron transparent area with high ion milling rates. HVTEM images and energy dispersive X-ray spectrometer (EDXS) analyses not only directly reveal the constitution of the transparent SnO 2 films but also disclose the structural characteristics of the SnO 2 conducting layer on an atomic scale. Moreover, it is found from the analysis of high-resolution electron microscope images by their digital diffractograms that the SnO 2 conducting layer produced by spin coating process contains SnO microcrystal.
Analytical Engineering Lab., Samsung Advanced Institute of Technology, P.O. Box 111, Suwon 449-712, South Korea ITO Division, Samsung Corning Co., Ltd., 644, Jinpyung-Dong, Gumi-City, Kyoung Buk, South KoreaCross-sectional microstructure of the SnO2 films on glass produced by the chemical vapor deposition (CVD) and spin coating process was investigated by high-voltage transmission electron microscopy (HVTEM). Thin cross-sections of the transparent SnO2 films on glass for TEM observation were prepared by the precision ion polishing system (PIPS) method to obtain large electron transparent area with high ion milling rates. HVTEM images and energy dispersive X-ray spectrometer (EDXS) analyses not only directly reveal the constitution of the transparent SnO2 films but also disclose the structural characteristics of the SnO2 conducting layer on an atomic scale. Moreover, it is found from the analysis of high-resolution electron microscope images by their digital diffractograms that the SnO2 conducting layer produced by spin coating process contains SnO microcrystal.SnO2 filmsChemical vapor depositionSpin coating processTransmission electron microscopy