Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Titanium disulphide fine power and preferred oriented thin film were prepared by plasma-CVD. The fine powder product was an aggregate of plate-like crystallites of some 10 nm in width, and less than 10 nm in thickness. Crystalline orientation of TiS 2 in the film was investigated in relation to deposition rate and film thickness. The preferred orientation of the TiS 2 basal plane perpendicular to the substrate was obtained on films with a thickness of more than ∼ 10 μm at a deposition rate of ∼ 4 10 -3 g/cm 2 h. Both the fine powder and the preferred orientation resulted in large discharge capacities in a lithium battery cathode application.