Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Non vapor-liquid-solid (VLS) method of growing high-purity silicon carbon nitride (SiC x N y ) nanorods with rod widths ranging from 10 to 60nm and lengths of microns is reported. Unlike the case for the ordinary VLS or catalyst-mediated growth, the two-stage process presented here is a catalyst-free approach since it does not involve any catalyst during the growth of the nanorods. The first stage involves formation of a buffer layer containing various densities of SiC x N y nanocrystals by electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD); whereas the second stage involves a high growth rate along a preferred orientation to produce high-aspect-ratio nanorods using microwave PECVD. Moreover, the number density and the diameter of the nanorods can be controlled by the number density and the size of the nanocrystals in the buffer layer. Production of quasi-aligned SiC x N y nanorods with a number density of the rods as high as 10 10 cm -2 has been achieved. The SiC x N y nanorods thus produced exhibit good field emission characteristics with stable operation over 8h. The approach presented here provides a new advance to synthesize nanorod materials in a controllable manner.