Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
We report on an adjustable process for the functionalisation of graphene surfaces with a downstream plasma source. The parameters of oxygen plasma treatments are modified such that oxygenated functionalities can be added to the surface of graphene films prepared by chemical vapour deposition in a controlled manner. The nature of induced defects is investigated thoroughly using Raman and X-ray photoelectron spectroscopy. A massive change in the surface properties is observed through the use of contact angle and electrochemical measurements. We propose the usage of such plasma treatments to facilitate the addition of further functional groups to the surface of graphene. The incorporation of nitrogen into the graphene lattice by substitution of oxygenated functional groups is demonstrated outlining the validity of this approach for further functionalisation.