Zastosowano optyczną spektroskopię emisyjną do badania w trybie in-situ dysocjacji cząsteczek oraz wzbudzenia i jonizacji atomów wodoru podczas procesu syntezy cienkich warstw diamentowych metodą chemicznego osadzania par gazowych, wspomaganego plazmą mikrofalową (uPACVD).Tor światłowodowy umożliwia sprzęgnięcie komory CVD z systemem spektroskopowym i wykonywanie pomiarów bezinwazyjnych. Wykonano pomiary spektralne w zakresie światła widzialnego - bliskiej podczerwieni i zbadano zależność natężenia linii serii Balmera od parametrów procesu technologicznego.
Optical Emission Spectroscopy (OES) was applied to in-situ investigation of hydrogen exciatation and ionization degree during Microwave Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition (uPACVD) of thin diamond films. Fibre optic coupling between CVD chamber and spectroscopic system enables remote, non-invasive process monitoring. Authors made measurements in VIS-near UV range, thus investigating intensity of hydrogen lines assigned to Balmer serie as a function of CVD pocess parameters.