Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Self-assembled monolayers (SAMs) of 4-methyl-4'-mercaptoethyl-biphenyl (HS-CH₂-CH₂-C₆H₄-C₆H₄-CH₃) and nexadecane thiol (HS-(CH₂)₁₅-CH₃ adsorbed on Au(111)/mica were investigated by cyanide etching in order to identify defects in the monolayer. The etch pits formed around a defect were examined ex situ by scanning tunneling microscopy. For both tiols removal of gold atoms begins in the vicinity of terrace edges and leads to the formation of triangular pits on the gold terraces. The defect densities of both thiols are comparable and the etch rate slightly higher for the alkane thiol compared to the biphenyl thiol. This feature combined with a charge permeability orders of magnitude higher than for alkane thiols makes biphenyl based thiols a promising material for modifying electrochemical properties of electrodes.