Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Nitrogen purge of wafer carriers is driving defect density reduction at critical process steps. We discuss several examples of defect creation related to the environment of the semiconductor wafer and how nitrogen purge of carriers improves defect density. We have applied nitrogen purge at the gate formation, SiGe epitaxy and silicide formation process steps and we report experimental split data from...
The effect of nitride composition, i.e. Si-rich (Si+) and N-rich (N+) nitride bi-layers separated by an oxynitride (SiON) layer on memory performance and reliability is studied. Bottom Si+ layer and top N+ forms the Si+/N+ bi-layer that is compared to the opposite configuration of N+/Si+ bi-layer to reveal large impact on memory performance and reliability. Si+/N+ bi-layers exhibit superior P/E windows...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.