Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
This paper describes the development of work function measurements using Kelvin probe force microscopy (KPFM) on semiconductor materials including high-κ/metal gate layers. We show how the choice of substrate and/or underlying films affects work function quantification. Other influences on work function measurement such as sample aging, humidity, and measurement mode were also studied. Finally, TiAl...
This paper describes the development of work function measurements using Kelvin probe force microscopy (KPFM) on semiconductor materials including high-κ/metal gate layers. We show how the choice of substrate and/or underlying films affects work function quantification. Other influences on work function measurement such as sample aging, humidity, and measurement mode were also studied. Finally, TiAl...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.