Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
After an evaluation of Zr precursor, quatemary Pb(Zr,Ti)Ox [PZT] films were prepared by a combination of binary atomic layer deposition (ALD) processes. ZrOx films were deposited on Pt/TiOx/SiOx/Si substrates using liquid injection ALD. Zr(C11H19O2)4 [Zr(DPM)4] dissolved in ethylcyclohexane (ECH) with a concentration of 0.1 M and water were used as precursor and oxidant, respectively. According to...
After an evaluation of Zr precursor, quaternary Pb(Zr,Ti)Ox [PZT] films were prepared by a combination of binary atomic layer deposition (ALD) processes. ZrOx films were deposited on Pt/TiOx/SiOx/Si substrates using liquid injection ALD. Zr(C11H19O2)4 [Zr(DPM)4] dissolved in ethylcyclohexane (ECH) with a concentration of 0.1 M and water were used as precursor and oxidant, respectively. According to...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.