Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
The PECVD silicon oxy-nitride film has been widely used as antireflective coating (ARC) and contact etch stop layer (CESL) in IC fabrication. It is typically deposited using SiH4&N2O gas mixtures at temperatures around 400°C, with film properties such as reflective index, wet etch rate, stress and uniformity controlled by varying gas flows, RF powers, temperature and pressures. In addition, the...
In solar cell manufacturing, surface texturing plays an important role in light trapping. Besides optical performance, it was revealed to be also critical to passivation performance of solar cells in this study. Among wafers textured with different chemicals (HNO3, KOH and KOH with IPA) and deposited with PECVD SiNx:H films, the acid HNO3 textured wafers showed the highest bulk lifetime, while the...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.