Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Under the same nitridation annealing treatment, the device performance for the lower nitrogen concentration in high-k dielectric treatment seems better than that with the higher one. In this stress test combining the recovery test, the recovery efficiency and the degradation rate in lower N2 concentration is more impressive than that with higher one, too. These results demonstrate the adequate N2...
The drive current under the higher doping energy in threshold voltage (VT) adjustment shows the higher performance. Simultaneously, this consequence in VT shift under heating effect also reflects the same trend. The deviation ratios at 20KeV and 15KeV doping energies are about 26% and 28%, respectively. The subthreshold swing (S.S.) at higher doping energy is slightly lower than that at higher one...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.