Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
A technique for the fabrication of planar silicon nanowires (SiNWs) on SIMOX-SOI (Separation by Implanted Oxygen-Silicon on Insulator) wafers using sidewall transfer lithography is presented, which can be used as field effect devices for biomolecular detections. Different from the existing synthesis process, this method is based on standard “top-down” semiconductor process. Aluminum sidewall is applied...
We present an improved procedure for extracting parasitic capacitance parameters and gate current parameters for MOSVAR, the industry standard MOS varactormodel. Our technique is verified against measured data from three technology nodes (180 nm, 130 nm and 65 nm), and is also used to validate the MOSVAR P-gate/P-well tunneling current sub-model.
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.